Системы измерения свойств в зависимости от температуры : Система измерения теплового расширения с лазерным интерферометром серии LIX-2

Высокопрецизионное измерение тепловое расширения с минимальным разрешением 1 нм
Этот прибор является лазерной системой измерения теплового расширения с ультравысокой чувствительностью, разработанная с использованием новейших оптических методов. Данная система подходит для использования как эталонный прибор для поверки стандартных термодилатометров, а также подходит для измерения абсолютного теплового расширения неизвестных образцов. Данная система соответствует японскому промышленном стандарту JIS R3251-1995 «Метод измерения линейного теплового расширения стекол с низким ТКР с помощью лазерной интерферометрии».

Конструктивные особенности
• Стабильное измерение доступно с помощью держателя образцов с параллельным перемещением.
• Высокоточное измерение с разрешением отсчета до 1 нм
• При использовании образцов кварца, пленок или тонких пластин толщиной 50  500 мкм их ТКР можно измерить в направлении толщины пленки.

Области применения
• Измерение органических пленок в направление толщины
• Точное измерение низкого ТКР стекол
• Контроль качества металлов с низким ТКР
• Измерение материалов для уплотнений
• Точное измерение деталей электронных приборов
• Измерение калибровочных образцов для стандартных термодилатометров.

 Технические характеристики